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行业新闻  

美光将利用IBM 3D制程制造首颗商用内存芯片

文章来源:半导体制造     发布时间:2011/12/3 10:21:02  【关闭】

IBM表示促使美光(Micron混合式记忆体立方体(HybridMemoryCub不久成为第一颗采用3D制程的商用芯片。近日。

美光将会开始生产利用IBM3D芯片制程硅穿孔(through-siliconvias;TSV所打造的第一颗芯片。硅穿孔制程将运用在美光的混合式记忆体立方之中。美光芯片的局部零件将会在IBM位于纽约的晶圆厂生产。

IBM将会在12月5日于美国华盛顿举行的IEEE国际电子装置会议上展示它TSV制程技术。

混合式记忆体立方(HMCDRA M封装的一项突破。HMC原型能以每秒128GB速率执行,对于美光而言。相较于目前的记忆体芯片的速率为12.8GB/HMC使用的电力也少了70%

HMC将会运用在网路与高效能运算设备、工业自动化与消费性产品等。目前HMC将主要针对高端用户。

 
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