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2011年半导体产业资本支出创下411亿美元最高纪录

文章来源:SEMI     发布时间:2011/9/9 8:43:10  【关闭】

业界可能无法抵挡快速增加的需求,展望未来。例如在NA ND闪存市场。SEMI表示,让一座晶圆厂从破土动工到实现量产约需要一年半的时间,那么,为了要在2012年或2013年看到产能的增加,建造新厂的计划必需从现在开始!

全球半导体产业的资本支出将在2011年增加到411亿美元的最高纪录;SEMI并预期整体半导体产能也将放缓。根据国际半导体设备资料产业协会(SEMI演讲显示。

其中有77项是专门针对LED设备投资的计划。明年,SEMI预计2011年将有223座厂房新增设备投资。预计还将有190座厂房将展开或继续装机,其中有72项是LED设备相关投资计划。

约占100亿美元;其次是台湾,2011年设备支出最高的地区是美国。约有90亿美元的投资。美洲地区在2002年时也曾位居设备投资支出之冠。

但美国成为设备支出之冠的另一项关键因素在于三星公司(Samsung于美国德州打造一座造价2530亿美元的S2产线”根据SEMI全球晶圆厂预测(WorldFabForecast演讲,尽管英特尔(Intel公司的设备投资支出最高。韩国将在2012年时超越美国,以超过100亿美元晶圆厂设备支出的投资位居榜首,其次是台湾约92亿美元的设备支出。

使得消费者信心指数与支出下降,近几个月来的经济发展。连带半导体产业也受这一低迷景气拖累。SEMI产业研究与统计部门的晶圆厂信息资深分析师ChristianGregorDieseldorff一份演讲中表示。

 
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